北京科锐：LPCVD设备的优点是工艺成熟度高有规模量产经验气体用量小成膜质量好设备投资少占地面积小（原标题：北京科锐：LPCVD设备的优点是工艺成熟度高，有规模量产经验，气体用量小，成膜质量好，设备投资少，占地面积小）

　　同花顺（300033）金融研究中心6月30日讯，有投资者向北京科锐（002350）提问， 请问公司的LPCVD设备与PECVD相比优劣如何，前景如何？今年以来订单量如何？谢谢

　　公司回答表示，尊敬的投资者：您好！LPCVD设备的优点是工艺成熟度高，有规模量产经验，气体用量小，成膜质量好，设备投资少，占地面积小。缺点是绕镀亚星游戏官网登录，原位掺杂较难亚星游戏官网登录，能耗大，石英耗材成本较高，不同尺寸硅片兼容性差。感谢您的关注。

　　证券之星估值分析提示北京科锐盈利能力较差，未来营收成长性较差。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

　　证券之星估值分析提示同花顺盈利能力良好，未来营收成长性良好。综合基本面各维度看，股价合理。更多

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